蚀刻腔体残留气体检测

信息概要

蚀刻腔体残留气体检测是半导体制造、微电子加工等领域中至关重要的质量控制环节。该检测主要针对蚀刻工艺完成后腔体内残留的气体成分进行分析，以确保生产环境的安全性和工艺稳定性。残留气体可能对设备、产品性能及操作人员健康造成潜在危害，因此定期检测是保障生产安全和产品质量的必要措施。

通过的第三方检测服务，可以准确识别并量化蚀刻腔体中的有害气体、腐蚀性气体或易燃易爆气体，从而为工艺优化和设备维护提供数据支持。检测结果有助于预防污染、减少设备损耗，并符合行业环保与安全标准。

检测项目

• 氟化氢（HF）浓度
• 氯气（Cl2）浓度
• 六氟化硫（SF6）浓度
• 四氟化碳（CF4）浓度
• 三氟化氮（NF3）浓度
• 氧气（O2）浓度
• 氮气（N2）浓度
• 氩气（Ar）浓度
• 氢气（H2）浓度
• 甲烷（CH4）浓度
• 二氧化碳（CO2）浓度
• 一氧化碳（CO）浓度
• 水蒸气（H2O）含量
• 氨气（NH3）浓度
• 硅烷（SiH4）浓度
• 磷化氢（PH3）浓度
• 硼烷（B2H6）浓度
• 总挥发性有机物（TVOC）
• 颗粒物浓度
• 腔体压力检测

检测范围

• 等离子蚀刻腔体
• 反应离子蚀刻腔体
• 干法蚀刻腔体
• 湿法蚀刻腔体
• 深硅蚀刻腔体
• 金属蚀刻腔体
• 介质蚀刻腔体
• 光刻胶蚀刻腔体
• 化学气相沉积腔体
• 物理气相沉积腔体
• 原子层沉积腔体
• 分子束外延腔体
• 离子注入腔体
• 溅射镀膜腔体
• 电子束蒸发腔体
• 激光蚀刻腔体
• 微波等离子腔体
• 电感耦合等离子体腔体
• 电容耦合等离子体腔体
• 磁控溅射腔体

检测方法

• 气相色谱法（GC）：分离并定量分析气体成分
• 质谱法（MS）：高灵敏度检测痕量气体
• 傅里叶变换红外光谱法（FTIR）：识别气体分子结构
• 激光吸收光谱法（TDLAS）：实时监测特定气体浓度
• 电化学传感器法：检测腐蚀性或毒性气体
• 光离子化检测法（PID）：测量挥发性有机物
• 非分散红外法（NDIR）：检测CO2等红外吸收气体
• 残余气体分析法（RGA）：真空环境下气体成分分析
• 化学发光法：用于NOx等活性气体检测
• 紫外荧光法：测定硫化物含量
• 离子迁移谱法（IMS）：快速检测痕量气体
• 声波传感法：监测气体密度变化
• 半导体传感器法：低成本气体检测方案
• 催化燃烧法：检测可燃性气体
• 湿化学分析法：特定气体的实验室检测

检测仪器

• 气相色谱仪
• 质谱仪
• 傅里叶变换红外光谱仪
• 可调谐二极管激光吸收光谱仪
• 电化学气体检测仪
• 光离子化检测器
• 非分散红外分析仪
• 残余气体分析仪
• 化学发光分析仪
• 紫外荧光分析仪
• 离子迁移谱仪
• 声波气体传感器
• 半导体气体传感器
• 催化燃烧式检测仪
• 湿化学分析装置