晶圆厂AMC分子污染测试

信息概要

晶圆厂AMC（Airborne Molecular Contamination）分子污染测试是半导体制造过程中至关重要的环境监测环节，旨在检测空气中微量的化学污染物，确保生产环境的洁净度符合工艺要求。AMC污染物可能来自设备、材料、人员或外部环境，其积累会导致晶圆表面缺陷、器件性能下降甚至批量报废。第三方检测机构通过分析手段，帮助客户精准识别污染源并制定控制方案，从而提升良率并降低生产成本。

检测项目

• 酸性气体（如HF、HCl、H2SO4等）
• 碱性气体（如NH3、胺类化合物）
• 可凝结有机物（DOP、塑化剂等）
• 挥发性有机物（VOCs）
• 硫化物（SO2、H2S等）
• 氮氧化物（NOx）
• 硼系污染物
• 磷系污染物
• 金属有机化合物（如TEOS）
• 硅氧烷类物质
• 颗粒物表面吸附AMC
• 甲醛
• 臭氧
• 碳氢化合物（C1-C10）
• 卤代烃（如CFC、HCFC）
• 酮类（丙酮、MEK等）
• 酯类（如乙酸乙酯）
• 芳香烃（苯、甲苯等）
• 二醇醚类
• 全氟化合物（PFCs）

检测范围

• 洁净室环境空气
• 工艺设备排气
• 新风系统
• 化学过滤器效率验证
• 晶圆存储环境
• 光刻区环境
• 刻蚀工艺区域
• CVD/PVD设备周边
• 厂务通风系统
• 化学品输送管道
• 气体分配系统
• 惰性气体纯度
• 工艺冷却水系统
• 防静电材料挥发物
• 包装材料脱气检测
• 建筑材料释放物
• 人员防护装备挥发物
• 化学品储存柜
• 废水处理设施
• 应急排放系统

检测方法

• 离子色谱法（IC）用于酸性/碱性气体分析
• 气相色谱-质谱联用（GC-MS）检测VOCs
• 液相色谱（HPLC）分析高沸点有机物
• 傅里叶变换红外光谱（FTIR）实时监测
• 气相色谱-火焰光度检测器（GC-FPD）测硫/磷化合物
• 原子吸收光谱（AAS）检测金属污染物
• 紫外荧光法测SO2/NOx
• 化学发光法臭氧分析
• 被动采样法长期监测
• 冲击式采样器收集颗粒物吸附AMC
• 质子转移反应质谱（PTR-MS）在线监测
• 表面声波传感器（SAW）快速筛查
• 电化学传感器法现场检测
• 热脱附-GCMS分析固体样品
• 激光光谱技术（TDLAS）特定组分检测

检测仪器

• 气相色谱质谱联用仪
• 离子色谱仪
• 傅里叶变换红外光谱仪
• 液相色谱仪
• 原子吸收光谱仪
• 紫外可见分光光度计
• 化学发光分析仪
• 质子转移反应质谱仪
• 可调谐二极管激光吸收光谱仪
• 表面声波检测系统
• 电化学气体传感器
• 热脱附仪
• 粒子计数器
• 在线VOC监测仪
• 被动采样器分析系统